此台電子顯微鏡電子發射源是熱激發之 LaB₆ ，具有較高電子束的優點。除一般放大成像，觀察一般試片形貌外，在操作明、暗場像及繞射圖譜相互之切換時，影像方位不變。明、暗場像可以分析材料結構及缺陷，例如結晶相分布、晶粒分布、多層鍍膜厚度、缺陷型態、缺陷位置、缺陷定量等；繞射圖譜可以判定材料成相，例如單晶、多晶及非晶質。若是在解析度內，也可做高解析原子影像。

• 裝機時間：2004年12月6日
• 運作時間：2004年12月6日
• 穿透式電子顯微鏡 JEOL JEM-2010 規格：
  1. 加速電壓：200KV
  2. 放大倍率：≦50X~1500KX
  3. 解像度：Point Resoltion：≦0.23nm；Line Resoltion：≦0.14nm
  4. 樣品傾斜角度: x, 35 ° , y 30 °

• 明場/暗場影像 
• 高解析影像 
• 電子繞射
• 試片前處理

1. 相同於傳統TEM樣品製做方式，樣品直徑3mm(不合規格樣品可使用銅網)，觀察區厚度0.1um以下。且待測樣品應該具有適當、足夠的機械強度，以避免在進出電鏡、或在檢測的操作過程中，發生剝落、碎裂的狀況。
2. 下列樣品，因容易對儀器造成損害，恕不受理：
   (1) 真空中具揮發性、分解性化學合成、未經正確處理或充分乾燥的粉末樣品，或在電子束照射下易分解、釋出氣體分子的樣品。
   (2) 強磁性、磁性或易被電磁透鏡吸引的粉末型式樣品或材料(先行將試片做好並以真空抽乾試片)。
   (3) 低熔點會產生相變及蒸鍍效應、有機高分子等試片
   (4) 未經正確處理或充分乾燥的粉末樣品。
3. 欲做高解析分析之試片需用等離子清潔機清潔過，以避免積碳效應阻斷觀察。
4. 其他特殊處理，請使用者自理。

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• 每月20日中午12點開放次月以”序號”預約，當月25日前回傳預約申請單，若未回傳預約申請單，將於當月28日取消該預約時段，不另行通知。
• 欲取消預約請在五天前，自行上網取消，當日實驗未到且未電話通知者，該時段仍扣款原預約時段費用。
• 欲取消預約但已少於五天內(不含實驗當日)，無法自行取消者，請先電話連絡或寫信告知，該時段仍扣款一小時基本費。
• 預約申請單繳交，請拍照或掃描傳送至負責技術人員信箱 yawenchuang@ncku.edu.tw