微影技術基本上是先行製作微米圖案於可透UV光之模板上，隨即將高分子均勻塗佈於基板上；在利用先前製作之具有微米圖案之模板置於所使用之基板上；並以紫外光照射高分子聚合或裂解反應。使阻劑圖案化於所需之基板上；如此即可得微米圖案於所需的基板上。

微影技術主要是圖案化於所需之基板上，可應用於微流道、半導體晶片，生物感測元件等製作。

本設備進行微米等級之微影製程且具有對準系統，曝光解析度達2um，服務對象包含業界及學界，服務內容除包含製程進行外，亦可協助設計及製作微影所需之光罩，此外，如有製程需求亦可先先行與設備負責人討論，以提高製程成功率。本中心除該微影設備外，亦具由蝕刻及鍍膜設備，可於微影製程後一併進行其他製程，提供使用者方便且快速的製程需求。

提供破片~4吋大小試片微影製程。

需提供5寸大小之光罩，以及已塗佈光阻之試片。

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