高解析掃描式電子顯微鏡/High Resolution Scanning Electron Microscope

儀器照片
顯微電鏡是一種觀察表面微觀世界的全能分析顯微鏡,具有景深長及高解析的特點。本儀器為日本 Hitachi SU8000 場發射掃描式電子顯微鏡,利用加負壓於金屬尖端上,以強電場將電子吸出尖端而形成很微小的電子束,在極高的真空中操作(~10-10 torr)可得到高品質分辨率的影像(15KV;1nm解析度)。
本儀器並配置能量分散式光譜儀(Energy Dispersive Spectrometer 簡稱 EDS)及 可作元素(Boron 以上)之定性及半定量分析,並提供了真空鍍膜設備服務,在107年12月時添購了電顯腔體電漿清潔裝置,對分解儀器腔體內部碳氫化合物和水氣有消除樣品被碳化污染的效果,提升照相解析能力。
本儀器提供高解析度影像、微區化學組成分析、多功能解析、試片製備容易等優點,適用於材料、半導體、光電、太陽能電池、奈米材料、 機械、物理、冶金等領域,其應用非常廣泛,並符合數位化、電腦化、自動化的操作,對於學術研究有非常大的發展空間。
一、儀器設備說明
  • 廠牌及型號:HITACHI SU8000
  • 購置日期:2010年12月
  • 運作日期:2011年1月
  • 儀器規格:
    1. 二次電子解析:1.0nm(15KV時)、1.4nm(1KV時)
    2. 放大倍率:LM(低倍率)30-2,000X、HM(高倍率)400-800,000X
    3. 加速電壓:1KV~30KV(一般模式)、0.1~2.0KV(減速模式)
    4. EDS(廠牌-德國Bruker)偵測範圍:原子序B以上
  • Resolution:123eV
二、服務項目
  • 影像觀察及照相:
    SEI(Secondary Electron Image):奈米材料、金屬、陶瓷、薄膜等物體材料之顯微影像表面 形貌觀察,並附有距離量測功能。
    BEI(Backscattered Electron Image):含有LA-BSE(Low-angle BSE)及HA-BSE(High-angle BSE)兩種模式,可進行成份組成及重元素鑑別分析。
  • 能量分散式光譜儀:微區顯微結構之定性、半定量及元素分佈分析(Mapping及Linescanning)。
三、取樣應注意事項:
  1. 試件取樣直徑最大不超過8㎜,最大高度2㎜,試件請自行前處理 (本設備樣品載台約5cm)。
  2. 如為非導體,請務必作固定及蒸鍍處理。
  3. 試件需不含水分、強磁性、揮發性、毒性、腐蝕性物質。
  4. 本儀器為預防污染真空腔體,拒絕受理含有低熔點之高分子、生物、粉末、磁性等之試件。
  5. 如對樣品是否能進入拍攝有任何疑問者,請務必先與技術人員討論。
四、收費辦法及標準
  • 國家科學及技術委員會-基礎研究核心設施預約服務管理系統為主,請上線查閱:儀器計費查詢
五、聯絡方式
  姓名 電話 電子郵件
技術員 施慧蓉小姐 06-2757575 轉 31376 z7306007@email.ncku.edu.tw
樣品寄送 地址:701401 臺南市東區大學路1號 國立成功大學 基礎研究核心設施    收件人:施慧蓉小姐
六、儀器放置地點
國立成功大學自強校區儀器設備大樓2樓208室
七、申請表格及注意事項
  • 每月26日早上11:00開放下個月份使用時段(由國科會貴儀資訊管理系統預約)。
  • 已完成預約之使用者如有特殊需求服務,請於使用當日的前二天聯絡技術人員洽詢樣品準備相關事宜。
  • 已完成預約,若欲取消,請於使用日前二天上網取消,否則須計使用費。
  • 第一次欲使用本儀器請事先接洽技術人員。
  • 申請表格