分析型場發掃描式電子顯微鏡/Analytical field emission scanning electron microscope

 
        本儀器由掃描式電子顯微鏡(FE-SEM)與聚焦式離子束顯微鏡(FIB)及能量分散式光譜分析儀(EDS)所組成。能提供試件樣品在高/低加速電壓之掃描觀察可獲得超高解析影像之能力,加速電壓15kV解像力1nm、1kV、1.9nm。裝設聚焦離子束,可進行切削及同步影像觀察。同時加裝EDS電腦分析系統,以擷取高解析數位影像及成份定性、定量等分析。影像及分析檔案資料均能系統化存檔,並透過網路安全傳輸至使用者。
一、儀器設備說明

本儀器為蔡司公司AURIGA場發射型掃描式電子顯微鏡,並裝設EDS分析 系統及FIB切削功能。

於2011年1月裝機完成,2011年4月開始服務。

儀器規格:

  1. 熱場效燈絲( Schottky emitter ) Acceleration Voltage: from 0.1KV to 30 KV.(Continuous mode)
  2. 二次電子像 (SE)解析度 Better than 1.0 nm at 15kV in high vacuum operating mode. Better than 1.9 nm at 1kV in high vacuum operating mode.
  3. 倍率範圍12 X to 1,000,000 X(SE Mode)
  4. 五軸電腦馬達控制台 X 軸移動距離100 mm.Y 軸移動距離 100 mm Z 軸移動距離 50 mm‧旋轉連續360°.T軸-10度至60度
  5. EDS偵測範圍B到Am.Resolution:125
二、服務項目
  1. 「掃描式電子顯微鏡」(Scanning Electron Microscope)影像觀察
  1. SEI(Scanning Electron Image): 各式材料之顯微影像及破斷面、金相表面觀察。
  2. BEI(Backscattered Electron Image): TOPO(Topography),凹凸表面觀察。 COMPO(Composition),元素鑑別及分析。
  1. 「能量分散光譜儀」(Energy Dispersive Spectrometer)可作微區成分之定性、半定量分析、linescan及mapping。
  2. 「離子束顯微鏡」(Focus Ion Beam)可進行定點縱剖面切削及同步影像觀察(Pt 氣體注入器尚在採購中,FIB暫不開放)。
  3. 「電荷累積消除器」(Charge Compensator)適合非導體試片觀察。
三、取樣應注意事項
  1. 試件取樣直徑最大不超過50mm(最好在10mm以內為宜),最大高度20mm,試件請自行前處理。  
  2. 如為非金屬、粉體試件,請先做蒸鍍及固定處理。
  3. 試件需不含水分、磁性、揮發性物質。
  4. 本儀器拒絕受理含有毒性、腐蝕性、揮發性及低熔點等之試件。
四、收費辦法及標準
以國科會-基礎研究核心設施預約服務管理系統為主,請上線查閱:儀器計費查詢
五、預約注意事項
  1. 首次欲使用本儀器,請於預約前先與技術人員接洽.   
  2. 每月28日下午2:00開放下個月份使用時段(由國科會貴儀資訊管理系統預約)。
  3. 已完成預約之使用者,請於使用當日的二~三天前先行查詢儀器狀況.
  4. 已完成預約,若欲取消,請於使用日的三天前上網取消,否則使用費需計.
六、本儀器之指導教授與技術員
技術員: 劉彩芸小姐   (06)2757575轉31373  email:z10508127@email.ncku.edu.tw
七、本儀器放置地點
成功大學 自強校區 儀器設備大樓2F0206室