【新方案推動】論文質化成果回饋獎勵方案
國立成功大學基礎研究核心設施共同使用服務計畫
論文質化成果回饋獎勵方案
更新日期:113/03/07
為因應國科會計畫轉型變革,我們從110年度起,為您制定了「論文質化成果回饋獎勵方案」。以使用者年度研究質化成果作為來年回饋獎勵之依據,使用儀器的成果越多,回饋越多!我們與您攜手共創雙贏局面!
依國科會基礎研究核心設施預約服務管理系統(下稱預約系統)所填報之學術績效,制定質化成果種類及回饋獎勵措施如下表:
獎勵標準 |
儀器專家或技術員 並列於作者群* |
致謝** |
備註 |
Impact factor < 5 或 Ranking > 10% |
獎勵:10點 |
獎勵:2點 |
*列於作者群者需有實質貢獻。 **指致謝欄、材料與方法或內文中提及對該儀器、服務中心致謝詞之情形,致謝詞請參考範例。 |
Impact factor >= 5 或 Ranking <= 10% |
獎勵:25點 |
獎勵:5點 |
- 學術績效資料來源:預約系統報表,於每年年初下載本計畫前一年度報表,經審核確認填報無誤者,依上表之獎勵標準得出每篇成果之獎勵點數。
- 獎勵點數計算:以計畫主持人為單位,加總每篇成果點數後得出每人點數,再將每人點數加總得出本計畫前一年度學術績效總點數。
- 回饋獎勵金計算:提撥本計畫前一年度的服務總收入部分金額(上限10%),除以前一年度學術績效總點數,得出每一點學術績效可換算之金額,換算成每位計畫主持人的回饋獎勵金。
- 回饋獎勵金使用:可折抵實驗已完成之儀器使用費,年度及儀器不限。由計畫主持人自行決定使用與否,以及要折抵之預約序號。請將折抵資訊e-mail至本方案聯絡人,由專人與您聯絡協助進行折抵作業。
- 舉例說明:計畫主持人於預約系統登錄之109年已發表成果中共有3篇提及本計畫儀器貢獻,其中有一篇IF<5的致謝,一篇Ranking<10%的致謝以及一篇IF>5的列於作者群,則計畫主持人109年之學術績效點數為2點+5點+25點=32點。本計畫109年度學術績效總點數為8,100點,提撥服務總收入100萬做為回饋獎勵金,可得每點約為123元,則該計畫主持人可獲得回饋獎勵金為32點X123元=3,936元整。
- 本方案執行單位:國立成功大學核心設施中心貴重儀器設備組
- 本方案聯絡人:宋宜樺小姐,e-mail:em61351@ncku.edu.tw
TEL:06-2757575#31370或直撥06-2383620
致謝的內容可參考以下範例,請以致謝儀器ID及計畫編號為主:
The authors gratefully acknowledge the use of 儀器ID of計畫編號belonging to the Core Facility Center of National Cheng Kung University.
另檢附儀器ID對照表,及近3年計畫編號清單:
近3年計畫編號清單 |
|
年度 |
計畫編號 |
113 |
NSTC 113-2740-M-006-002 |
112 |
NSTC 112-2740-M-006-001 |
111 |
NSTC 111-2731-M-006-001 |
儀器ID對照表 |
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流水號 |
儀器名稱 |
儀器ID |
|
元素分析儀 |
EA000600 |
|
分析型場發掃描式電子顯微鏡 |
EM000600 |
|
多功能環境場發掃描式電子顯微鏡 |
EM000700 |
|
高解析穿透式電子顯微鏡 |
EM000800 |
|
高解析穿透式電子顯微鏡-液態樣品 |
EM000800A |
|
軟物質穿透式電子顯微鏡 |
EM000900 |
|
高解析掃描電子顯微鏡 |
EM003600 |
|
前瞻聚焦離子束系統 |
EM025200 |
|
多功能低電壓穿透式電子顯微鏡 |
EM025800 |
|
掃描探針顯微鏡-掃描電化學 |
EM025900 |
|
化學分析電子光譜儀-ESCA(XPS) |
ESCA000200 |
|
X光光電子能譜儀-XPS |
ESCA003700 |
|
氦液化系統 |
HLS000100 |
|
高解析感應耦合電漿質譜分析儀 |
ICP000400 |
|
高解析氣相層析飛行質譜儀 |
MS000400 |
|
高解析Orbitrap質譜儀串聯液相層析暨晶片電泳分析系統 |
MS004000 |
|
固態核磁共振光譜儀 |
NMR000800 |
|
600MHz 核磁共振儀 |
NMR001900 |
|
超導核磁共振儀 500NMR |
NMR005000 |
|
AVIII HD 700MHz 高磁場超導核磁共振儀 |
NMR005700 |
|
瞬態吸收光譜儀 |
OTHER003700 |
|
電子束蒸鍍薄膜沉積系統 |
SEMI004100 |
|
感應耦合式高密度電漿蝕刻機 |
SEMI004200 |
|
電子束微影系統 |
SEMI004300 |
|
超導量子干涉磁化儀 |
SQUID000200 |
|
超導量子干涉磁化儀-高壓量測服務 |
SQUID000200A |
|
物理性質量測系統儀 |
SQUID001200 |
|
物理性質量測系統儀-高壓電性量測 |
SQUID001200A |
|
高強度多功能X光薄膜微區繞射儀 |
XRD001900 |
|
單晶X-光繞射儀 |
XRD003100 |
|
小角度X光散射儀(SAXS/WAXS&變溫) |
XRD005000 |
|
高溫二維X-ray廣角繞射儀(粉末X光二維繞射&低掠角薄膜X光繞射儀) |
XRD005100 |